4月20日，拓荆科技股份有限公司（以下简称“拓荆科技”）在上交所科创板上市交易。拓荆科技发行价格71.88元/股，截至当日中午收盘，拓荆科技股价报收91.24元，总市值115.4亿元。

资料显示，拓荆科技成立于2010年，主要从事高端半导体专用设备的研发、生产、销售和技术服务，聚焦于半导体薄膜沉积设备。主要产品包括等离子体增强化学气相沉积（PECVD）设备、原子层沉积（ALD）设备和次常压化学气相沉积（SACVD）设备3个产品系列。

2018年至2021年第一季度，拓荆科技实现营业收入分别为7,064.40万元、25,125.15万元、43,562.77万元和5,774.10万元；同期净利润分别为-10,322.29万元、-1,936.64万元、-1,169.99万元及-1,058.92万元，扣除非经常性损益后归属于母公司所有者的净利润分别为-14,993.05万元、-6,246.63万元、-5,711.62万元和-2,400.90万元。

根据上市公告书，拓荆科技本次实际募资总额高达22.73亿元，募集资金净额为21.28亿元，全部用于高端半导体设备扩产项目、先进半导体设备的技术研发与改进项目、ALD设备研发与产业化项目和补充流动资金。

（JSSIA整理）