8月16日，彤程新材宣布将自筹6.9亿元，研发ArF高端光刻胶。

为了进一步深化在电子材料领域的业务布局，弥补国内光刻胶技术与全球先进水平的差距。据公告，彤程新材将通过全资子公司彤程电子在上海化学工业区内使用自筹资金6.9亿元，投资建设“ArF 高端光刻胶研发平台建设项目”，项目预计于2023年末建设完成。

具体来说，彤程新材将研究ArF光刻胶，特别是193nm湿法光刻胶的工业化生产技术，确定193nm光刻胶工程化放大技术、标准的生产流程及质量管控体系，研发生产光刻胶高端产品。

值得注意的是，今年5月，彤程新材半导体光刻胶及高纯试剂项目已在上海化学工业区顺利开工，计划年内机械竣工。项目达产后，可形成年产1.1万吨半导体光刻胶及2万吨相关配套溶剂的产量。

（来源：拓墣产业研究）