半导体光刻胶作为光刻胶中最高端的组成部分，我国本土企业目前仅占有较低的市场份额。适用于6英寸硅片的g线和i线光刻胶的自给率约为20%，适用于8英寸硅片的KrF光刻胶的自给率不足5%，而适用于12英寸硅片的ArF光刻胶则完全依靠进口。随着全球光刻胶市场规模持续扩大，加之国内半导体产能快速扩产和供应链自主可控的需求推动，未来国内光刻胶龙头企业在行业高景气背景下有望加快发展。

近年来全球光电产业、消费电子产业向我国转移的趋势愈加明显，下游产品PCB、LCD、半导体等产业链迅速发展。我国光刻胶产品需求格局与全球光刻胶市场类似，PCB、LCD、半导体和其他光刻胶市场份额占比平衡。然而由于我国光刻胶行业发展和起步时间较晚以及高端光刻胶行业壁垒高企等因素，造成国产光刻胶应用结构较为单一，主要集中于PCB光刻胶、TN/STN-LCD光刻胶中低端产品。高端产品则需要从国外大量进口，例如TFT-LCD、半导体光刻胶等。目前国内半导体光刻胶的市场主要被日本、美国企业所占据，主要体现在高分辨率的KrF和ArF光刻胶核心技术基本被垄断，产品也出自垄断公司。

（协会秘书处）