6月30日，上海新阳半导体材料股份有限公司（以下简称“上海新阳”）发布公告称，公司自主研发的KrF（248nm）厚膜光刻胶产品近日已通过客户认证，并成功取得第一笔订单。

上海新阳表示，本次产品认证的通过及订单的取得，标志着“KrF（248nm）厚膜光刻胶产品的开发和产业化”取得了成功，为上海新阳在光刻技术领域目标的全面完成奠定了坚实基础。

据悉，光刻技术是上海新阳正在加快开发的第三大核心技术，并且已经取得了重大突破。此前的年报显示，上海新阳集成电路制造用ArF干法、KrF厚膜胶、I线等高端光刻胶验证工作正在稳步推进，部分光刻胶产品已取得优异的线外测试数据。

（来源：全球半导体观察/JSSIA整理）