6月15日，中微半导体设备（上海）股份有限公司（以下简称“中微公司”）首台8英寸甚高频去耦合反应离子（CCP）刻蚀设备Primo AD-RIE 200™顺利付运客户生产线。

Primo AD-RIE 200™是中微公司自主研发的新一代8英寸甚高频去耦合反应离子（CCP）刻蚀设备。基于已被业界广泛认可的12英寸CCP刻蚀设备的成熟工艺与特性，Primo AD-RIE 200™在技术创新和生产效率方面都有了进一步提升，能够满足不同客户8英寸晶圆的加工需求。

（来源：与非网）