继中芯国际续单ASML光刻机后，3月8日，上海新阳（300236）公告称，经各方积极协商、运作，ASML-1400光刻机设备于今日已进入合作方北方集成电路技术创新中心（北京）有限公司场地，后续将进行安装调试等相关工作。

上海新阳表示，公司采购的ASML干法光刻机设备顺利交付，对加快193nmArF干法光刻胶产品开发进度有积极影响，有利于进一步提升公司光刻胶产品的核心竞争力，加快落实公司发展战略，提高公司抗风险能力和可持续发展能力。

业内分析人士认为，上海新阳立足电子电镀、电子清晰、电子光刻三大核心技术，是国内一家能够为晶圆铜制程90-28nm技术节点提供超纯电镀液及添加剂的本土企业。在引进ASML-1400后，上海新阳有可能率先在高端光刻胶方面取得实质性成果。以上海新阳的光刻胶项目进度来看，预计ArF光刻胶于2022年便可实现少量销售，2023年则能大批量产，步入广泛的商用阶段。

业内人士评论称，光刻胶作为半导体光刻工艺的核心材料，决定了半导体图形工艺的精密程度和良率，成为了其中最受瞩目的环节之一。未来，在高端ArF光刻胶领域研发和量产持续突破，将直接作用于中国芯的制造进程，为集成电路产业的快速发展提供驱动力。

（来源：中国电子报、电子信息产业网）