盛美首台立式炉产品首供LPCVD市场，未来将推广至氧化，退火和ALD等目标市场，该设备展示了中韩研发团队合作新成果。

盛美半导体设备近期发布了立式炉设备（Ultra Furnace）——首台为多种干法工艺应用开发的系统。首台立式炉设备优化后可实现高性能低压化学气相沉积（LPCVD），同时该设备平台还可延伸至氧化和退火，以及原子层沉积(ALD)等应用。此次的立式炉设备也展现了盛美中国和韩国研发团队为时两年的合作成果。

“Ultra Furnace立式炉产品是由我们中韩两国的专家团队合作开发差异化技术的成果。”盛美半导体韩国公司首席执行官金泳律说：“盛美韩国团队的成立让我们世界一流的上海团队如虎添翼，加快了我们进军市场的速度，并为本土客户提供出色的技术支持。”

沉积工艺是指，在高温下化学气体在晶圆表面上反应形成氧化硅或者氮化硅膜层。Ultra Furnace立式炉系统可用于批量处理多至100片12英寸（300毫米）晶圆。创新的系统设计使用了新开发的硬件，提高了耐用性，同时搭载了盛美成熟的软件技术、专有的控制系统和算法。这些特点保证了设备能稳定地控制制程压力、气体流量和温度。

目前盛美Ultra Furnace立式炉主要面向LPCVD工艺市场，后续只需对其组件和布局进行一些局部变更，就可满足其它目标应用需求。85%左右的硬件配置可保持不变，所以面向新应用的变动可有效地实现。

（来源：微电子制造）